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真空蒸镀系统
发布时间: 2011-09-29 12:55   作者:本站编辑     次浏览   大小:  16px  14px  12px

利用物质的蒸气压随温度的升高而升高的原理,使之在高真空下受热蒸发后沉积在较冷的基板表面形成超薄膜。高的真空度可以降低升华温度、防止蒸发物质的氧化以及减少与分子之间的碰撞。本升华系统具有独立的有机和金属蒸发腔和传送系统,相互污染小,相互运输过程中无需破坏真空。
真空度可达4*10-4Pa;
适用于制备绝大多数有机和金属超薄膜;
最大可制作基板大小10*10cm2;
适用于有机发光二极管、有机太阳能电池、有机载流子迁移率测试器件等多种有机半导体薄膜器件的制作。